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Uma máscara esclarecedora com três passos ideal para a pele com defeito.
Desenvolvido para purgar os poros de sujeira e sebo, o Oh K! 3 Step Mask é uma solução profundamente limpante para a pele incomodada. Projetado com habilidade para oferecer a limpeza mais profunda possível enquanto proporciona hidratação e umidade, esta inovadora máscara de três passos deixa a pele limpa, acalmada e livre de imperfeições.
Carvão vegetal - Desenha sujeira e impurezas dos poros.
A coleção contém:
Primeiro passo: Lavagem de limpeza - Uma lavagem suave desenvolvida para eliminar a pele dos resíduos de superfície em preparação para o segundo passo.
Passo dois: Máscara de fibra de carvão de bambu - Uma máscara de folha naturalmente melhorada de forma inovadora para extrair impurezas.
Passo Três: Soro Hidratante - Um soro sem peso desenvolvido para substituir a perda de umidade enquanto suaviza a superfície da pele.
Aqua (Water), Dipropylene Glycol, Glycerin, Alcohol, Butylene Glycol, Centella Asiatica Extract, Paeonia Suffruticosa Root Extract, 1,2-Hexanediol, PEG-60 Hydrogenated Castor Oil, Carbomer, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Glyceryl Caprylate, Hydroxyethylcellulose, Snail Secretion Filtrate, Xanthan Gum, Ethylhexylglycerin, Potassium Hydroxide, Sodium Hyaluronate, Disodium EDTA, Phenoxyethanol, Parfum (Fragrance).
